#1. MÔ PHỎNG LỖI MASK QUANG KHẮC EUV
Giới thiệu về quang khắc Extreme Ultra Violet
Quang khắc là một trong những tiến trình quan trọng nhất trong việc đúc lõi chip. Nó hầu như quyết định một hãng chip khắc được thế hệ chip bao nhiêu nm!
Với thế hệ chip tiên tiến nhất hiện tại (7nm, 3nm, 2nm), phương pháp quang khắc được sử dụng là với ánh sáng EUV.
Khác với quang khắc truyền thống (đời chip 10nm, 14nm hoặc cũ hơn), vốn dùng thấu kính và mask trong suốt, thì quang khắc EUV sử dụng gương phản xạ và mask phản xạ. Nguyên nhân chính là với bước sóng quá nhỏ (13.5nm) EUV bị giảm năng lượng quá nhiều khi khúc xạ qua hệ thống thấu kính. Nếu
Lỗi khi chế tạo mask EUV
Chúng tôi rất vui mừng thông báo rằng vimachbandan.com sẽ sớm ra mắt! Tại vimachbandan.com, chúng tôi cam kết mang đến cho bạn những sản phẩm và dịch vụ tốt nhất. Đội ngũ của chúng tôi đang làm việc chăm chỉ để hoàn thiện trải nghiệm người dùng tuyệt vời mà bạn xứng đáng có được. Hãy theo dõi để cập nhật những thông tin mới nhất và những ưu đãi đặc biệt! Cảm ơn bạn đã ủng hộ và hãy chuẩn bị cho sự ra mắt sắp tới của chúng tôi.
